本网讯（通讯员 徐平）为了精简工艺，降低生产成本，公司研发技术人员把四道光刻转三道光刻工艺，此项目被列为今年的工作重点。在保证现有亮度、电压等光电参数不变差的前提下，研发人员经过反复的实验验证和技术攻关，最终确定了一条可行的技术路线。该“四转三”项目在开发过程中曾遇到不少技术难题，比如ESD等电性问题，但是公司研发人员凭借深厚的LED理论功底和丰富的量产经验成功地解决问题。目前，项目的小批量量产实验结果已经出来，数据显示，电压下降0.005V，封装亮度提升1.94%—2.97%，接下来将申请中批量验证。

  “四转三”项目意义重大，据初步估算，该新工艺将为公司节约成本约70万/月，增加光刻产能12万片次/月。